Intel se prépare pour le 20 GHz

ASML vient d’annoncer qu’il venait de recevoir sa première commande pour une machine pouvant graver des puces en utilisant la lithophotographie par ultraviolets "extrêmes". Cette machine, qui devrait être livrée à Intel durant le second semestre 2005, devrait permettre dans un premier temps de graver en 0.045 Micron. A court terme, la lithophotographie par ultraviolets extrêmes devrait permettre de graver des pistes d’une largeur de 0.03 Micron.

La compagnie ASML travaille depuis 1999 avec le consortium EUV LLC (Limited Liability Company, qui regroupe Intel, Motorola, AMD, Micron, Infineon et IBM. La première machine à EUV avait d’ailleurs été annoncée en Avril 2001, et elle avait été développé par se consortium ainsi que par laboratoires du Département de l'Energie Américain.

D’après des informations antérieures, on sait que c’est en 2007 qu’Intel prévoit de lancer ses premiers processeurs gravés en 0.045 Micron. Ces processeurs, qui seront à priori gravés grâce à l’EUV, devraient fonctionner à des fréquences de l’ordre de 20 GHz et disposer d’1 Milliard de transistors.

Lors de la livraison de cette première machine EUV en 2005, le processeur Intel le plus puissant devrait disposer de 400 Millions de transistors gravés en 0.065 Micron et fonctionnant à 10 GHz. On croyait jusqu’alors que ce processeur serait également gravé via EUV, mais étant donné que la livraison de la machine ASML n’est pas prévue avant le second semestre 2005 ce ne sera pas le cas. La gravure en 0.03 Micron est pour sa part prévue pour 2009.