Actualités informatiques du 06-08-2013

Afin de renforcer sa position et sa crédibilité dans le monde du HPC, le calcul massivement parallèle, Nvidia vient de racheter The Portland Group (PGI) qui était jusqu'alors propriété de STMicroelectronics. Depuis 1989, PGI conçoit des outils et compilateurs C, C++ et Fortran dédiés aux supercalculateurs. C'est naturellement que la société avait sauté le pas vers le GPGPU notamment en travaillant en étroite collaboration avec Nvidia pour lequel il a développé la version Fortran de CUDA.

PGI s'est ensuite associé à CAPS, Cray et Nvidia pour développer le standard OpenACC, un langage de programmation de haut niveau qui permet d'exploiter les accélérateurs massivement parallèles relativement facilement à l'aide de directives. Présent sur toutes les architectures, PGI propose également un compilateur OpenCL optimisé pour les micro-serveurs à base de CPU multicores d'architecture ARM.

Une acquisition qui est donc logique pour Nvidia, que ce soit en vue de ce dernier point (le développement de son premier core ARM 64-bit est en cours de finalisation) ou pour le GPGPU en général. Tout comme c'était le cas à l'intérieur du groupe STMicroelectronics, PGI va rester une entité indépendante supervisée par Nvidia, tout du moins dans un premier temps. Reste bien entendu à voir si le support des architectures concurrentes restera maintenu dans le temps.

Jeff Herbst, NVIDIA VP of Business Development, Doug Miles, PGI Director et Ian Buck, NVIDIA General Manager of GPU Computing Software.
Dans l'immédiat, Nvidia va pouvoir profiter de synergies dans le développement de compilateurs destinés à l'architecture CUDA. Comme l'indique Ian Buck, General Manager of GPU Computing Software chez Nvidia (et accessoirement le développeur qui a écrit la première version de C pour CUDA), derrière le succès de tout processeur se cache l'équipe de développement des compilateurs. Avec PGI, nul doute que celle de Nvidia se retrouvera renforcée.

Déjà bien étoffée (rappelez-vous les nombreux modèles testés dans nos comparatifs de ventilateurs 120mm !), la gamme de ventilateurs Scythe 120mm vient encore de s'enrichir des cinq modèles de la nouvelle série Grand Flex 120, composée de 4 modèles DC et d'un modèle PWM.

Les modèles DC sont disponibles en quatre vitesses de pointe : 800 rpm (SM1225GF12SL), 1,200 rpm (SM1225GF12L), 1,600 rpm (SM1225GF12M), et 2,000 rpm (SM1225GF12H), pour plaire aux amateurs de performances comme aux amateurs de silence.

Le Grand Flex PWM (SM1225GF12SH-P), du haut de ses 2400 rpm maxi, s'adressera aux utilisateurs en mal de performances plutôt qu'aux amateurs de pc silencieux, bien que sa plage de vitesse annoncée (600-2400rpm) soit particulièrement large et descende assez bas…


Une des particularités de cette nouvelle série de ventilateurs est le Fluid dynamic bearing (qui s'appelle en l'occurrence "Sealed Precision Fluid Bearing"), dont le lubrifiant est censé supporter des températures aussi élevées que 250°C (sic), garant d'une longue durée de vie, ce qui concorde avec le MTBF annoncé de 120 000 heures, soit plus de 13 ans d'usage continu.


En terme d'esthétique, Scythe présente ici un design 100% maison, avec un rotor à 9 pales dotées chacune d'une encoche à leur base, le tout étant prévu pour délivrer un flux d'air plus concentré, ce qui est censé procurer de meilleures performances sur radiateur, une chose que nous nous empresserons de vérifier dès que nous aurons pu mettre la main sur des exemplaires de test.

Au niveau du bundle, rien d'extraordinaire, mais le nécessaire est présent, avec 4 vis et 4 fixations souples, ainsi qu'un adaptateur molex. Rajoutons à cela que le câble d'alimentation, long de 50cm, est gainé, ce qui est toujours appréciable.

Pour finir, les prix de vente conseillés par Scythe sont de 12€ pour les modèles DC, et 14€ pour le Grand Flex PWM.

Depuis ce matin certains revendeurs ont baissé le prix des Radeon HD 7950, 7970 et 7990. Cette baisse provient en fait d'un programme de rabais mis en place par AMD et qui devrait perdurer jusqu'à la mi-septembre. Il faut s'attendre aux baisses suivantes dans les prochains jours chez la plupart des revendeurs :

- Radeon HD 7950 : environ 30-35 € de moins
- Radeon HD 7970 : environ 20-25 € de moins
- Radeon HD 7990 : environ 150-170 € de moins

Les modèles Vapor-X de Sapphire se retrouvent par exemple à 240 € et 320 € en Radeon HD 7950 et 7970 chez ceux ayant déjà appliqué la baisse, un repositionnement nécessaire face à celui opéré par Nvidia avec les GTX 760 et 770 et au vieillissement du bundle de jeux.

De son côté la Radeon HD 7990 tombe du coup à environ 750 €, un nouveau tarif qui combiné à la sortie des Catalyst 13.8 beta redonne un peu d'intérêt à ce modèle vitrine.

Nos confrères d'IEEE Spectrum viennent de publier un article  relatant des nouvelles assez optimistes en provenance d'ASML.

Elles concernent bien entendu la photolithographie EUV, un point de plus en plus critique pour le développement des futures technologies de lithographie au-delà de 2015. Pour rappel, les procédés de photolithographies actuels reposent tous sur des sources lumineuses d'une longueur d'onde de 193nm, repoussée aujourd'hui dans ses derniers retranchements au travers de multiples techniques comme le patterning multiple. L'EUV apportera une source lumineuse plus flexible dont la longueur d'onde sera de seulement 13 nm, et dont la nécessité se fait de plus en plus pressante avec l'approche de la finesse de gravure 10 nm (attendue théoriquement pour 2015, mais peut être plus probablement pour 2016) où la technologie est vue comme quasi indispensable par beaucoup (Intel avait évoqué avoir mis au point une alternative "non EUV" en cas d'une nouvelle défaillance).

Le fournisseur d'outil ASML travaille depuis des années sur des machines de photolithographie EUV avec un succès relativement modéré, quelque chose que l'on doit à la grande complexité du problème qu'ils tentent de résoudre. Nous vous avions rapporté l'été dernier qu'ASML avait ouvert son capital à ses clients dans le but d'obtenir un financement spécifique pour accélérer le développement de la lithographie EUV. Intel avait ainsi investi 3.3 milliards d'euros, suivi rapidement par TSMC et Samsung.

De multiples problèmes restent à résoudre du côté de l'EUV, le principal étant l'intensité de la source lumineuse utilisée qui impacte directement le débit de la machine. Pour que la technologie soit économiquement viable, Mark Bohr d'Intel estimait qu'un débit de 50 à 100 wafers par heure était nécessaire. Un chiffre significativement plus important que les niveaux de production actuels des machines de préproduction EUV, plus proches de la dizaine de wafer par heure. Malgré tout, nous avions noté en avril que TSMC était confiant sur la possibilité de fabriquer, avec ASML, du 10nm EUV dès 2015.

Durant la conférence Semicon West , ASML a donné de nouveau détails et présenté une roadmap pour atteindre la mise en production en 2015 avec un objectif de 125 wafers/heure. Les avancées reposent en partie sur le rachat de la société Cymer  en mai dernier par ASML. Cette société développe des sources lumineuses EUV qui combinent des minuscules goutes d'étain avec un laser pour créer un plasma qui emet à son tour de la lumière EUV. Une des avancées de Cymer concerne l'ajout d'un second laser en amont pour améliorer le rendement du laser principal. La technologie a déjà été appliquée sur une machine de préproduction d'ASML en mars dernier avec un rendement "stable" de 30 wafers par heure via une source lumineuse 40 watts.

ASML dispose désormais d'une roadmap - via Cymer - pour atteindre les 250 watts qui seront nécessaire à atteindre le niveau de production de 125 wafers/h en 2015 sur leurs machines de production NXE:3300B . La société pense pouvoir démontrer, d'ici à la fin de l'année un rendement - stable - de 80W. Un des problèmes des sources lumineuses EUV à l'étude était qu'au-delà de la puissance souvent trop faible, les valeurs annoncées étaient souvent en pointe et pas vraiment reproductibles dans la durée. Sur ce point ASML tente de rassurer indiquant avoir obtenu un niveau de qualité constant sur des tests répétés de plus de 40 heures d'affilés.

Si ces nouvelles sont plutôt bonnes en ce qui concerne les sources lumineuses, il ne s'agit bien entendu pas du seul problème à résoudre. Le niveau de défaut dans la fabrication des masques est un autre obstacle majeur sur lesquels les différents acteurs de l'industrie devront travailler en parallèle.