ASML vient de faire une annonce importante concernant la lithographie EUV puisqu'il a expérimenté avec succès l'installation d'une source lumineuse d'une puissance de 250W sur une machine NXE:3400B, ce qui lui a permis d'atteindre la cadence de 125 wafers par heure qu'ASML cible depuis longtemps.

Un progrès plus que notable par rapport aux 42 wafers/heure de 2015 et aux 85 wafers/heure de 2016. Reste maintenant à travailler sur la disponibilité des machines, elle était comprise entre 70 et 80% en 2016 mais ASML vise 90% pour 2018.

Le constructeur annonce au passage avoir obtenu 8 commandes supplémentaires de systèmes EUV NXE:3400B, portant le nombre de machines précommandées à 27 pour 2,8 milliards d'Euros. Sur le trimestre en cours ASML indique en avoir livré 3. Pour rappel l'EUV est une technologie annoncée comme essentielle pour le passage à 5nm, et qui sera exploitée partiellement sur certains process 7nm.